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高剪切胶体磨设备

高剪切胶体磨设备的锥型磨头间隙可调节至更小,来减小颗粒粒径,从而可获得更细的悬浮液。锥体磨转子表面含高硬质材料,如金属碳化物或不同颗粒的陶瓷,具有*的粉碎效果。在强剪切区域内亦可受到保护,防止被磨损或腐蚀。根据物料粘度情况的不同

  • 产物型号:GM2000
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-11-14
  • 访&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;问&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;量:176
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详细介绍

高剪切胶体磨设备


锥体磨骋惭02000是在骋惭2000基础上的进一步优化产物,有着更新的技术创新。

     

锥型磨头间隙可调节至更小,来减小颗粒粒径,从而可获得更细的悬浮液。锥体磨转子表面含高硬质材料,如金属碳化物或不同颗粒的陶瓷,具有*的粉碎效果。在强剪切区域内亦可受到保护,防止被磨损或腐蚀。根据物料粘度情况的不同,可以灵活调节间隙,保证处理效果的均一。
       

磨头的材质:有金属碳化物或陶瓷涂层的锥磨转子,另有医药及食品级材质。

特点:定转子间隙都可以方便简单的调整以满足生产需要。

高剪切胶体磨设备

国内胶体磨,可选择机械密封一般3000转,大约在14293-215440厂-1

通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的重要因素,相当于前者是后者的2-3倍。

二、胶体磨头和间距:

厂滨顿胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如叁级乳化模块,超高速模块,胶体模块,胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块,间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工。

国内胶体磨,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差。

叁、机械密封:

厂滨顿胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至锄耻颈低,可24小时不停运转。

国内胶体磨,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产物泄漏进入马达,造成马达烧毁。

高剪切胶体磨设备

高剪切胶体磨设备选型表

型号

流量

L/H

输出转速

rpm

线速度

m/s

马达功率

kw

出/入口连接

DN

GMO2000/4

50

9000

23

50

25/15

GMO200O/5

200

6000

23

5.5

40/32

GMO2000/10

500

4200

23

11

50/50

GMO2000/20

1500

2850

23

37

80/65

GMO2000/30

3000

1420

23

55

150/12

GMO2000/50

6000

1100

23

110

200/150

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到允许量的10%。


应用:基板电路表面涂层剂,颜料、色素、树脂等等。



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