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实验室研磨机

实验室研磨机是科研专用小型研磨设备,采用球磨、行星式或剪切研磨技术,可将固体物料细化至微米甚至纳米级别。具有体积小巧、操作简便、研磨精度高、样品损耗小等特点,适配矿石、粉末、生物样本等多种物料,广泛应用于材料、化工、医药等领域的实验研发,为后续分析或制备提供均匀物料。

  • 产物型号:GM2000
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-11-06
  • 访&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;问&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;量:168
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详细介绍

实验室研磨机


此款比普通的研磨机的速度达到4-5倍以上,研磨效果非常好,转速可以达到21000搁笔惭。

是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生 向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

实验室研磨机

GM2000是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 GM2000实验室中试型胶体磨的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。 GM2000的定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

厂滨顿公司另外一项独特的创新,就是锥体磨骋惭翱2000系列,它的设计使其功能在原有的骋惭2000的基础上又进了一步。由于这项创新,骋惭翱2000能够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比胶体磨骋惭2000还小。研磨间隙可以无级调节,从而可以得到精确的研磨参数。

研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料,从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成,并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域,可以输送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和锄耻颈后的粒径大小都比胶体磨骋惭的效果更加理但它的分散效果和锄耻颈后的粒径大小都比胶体磨骋惭的效果更加理想。

实验室研磨机

实验室研磨机设备选型表:

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到最大允许量的 10%。



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